Technik
2026-03-28

Oberflächenbehandlung von Halbleiteranlagenteilen

Halbleiterprozessumgebungen sind extrem — Vakuum, Hitze, korrosive Gase und Plasma greifen Anlagenteile an. Die Oberflächenbehandlung ist entscheidend für Lebensdauer und Prozessstabilität.

Oberflächenbehandlung von Halbleiteranlagenteilen

Halbleiterausrüstung setzt Metallteile extremen Bedingungen aus — Vakuum, Hitze, korrosive Gase und Plasma. Oberflächenbehandlung ist nicht optional, sondern eine grundlegende Konstruktionsentscheidung.

Gängige Oberflächenbehandlungen

  • Eloxieren (Aluminium) — klar, farbig, hart (25-50 μm) für Verschleiß- und Korrosionsschutz.
  • Vernickeln — einschließlich chemisch Nickel-Phosphor, mit gleichmäßiger Schichtdicke auch bei komplexen Geometrien.
  • PVD- / DLC-Beschichtungen — TiN, CrN, AlTiN für extreme Verschleiß- und Reibungsanforderungen.
  • Elektropolieren + Passivieren — Standard für Edelstahlteile in Prozesskammern.

Auswahlkriterien

Wahl nach Umgebung (Vakuum, Gase, Temperatur), mechanischen und elektrischen Anforderungen, Reinheitsklasse (Class 100 / Class 10) und Kosten. Die richtige Behandlung verlängert die Lebensdauer um das 3- bis 5-Fache; die falsche versagt schon nach Tagen.

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